Patchs nez purifiant x5 - SKIN & OUT

Les Patchs nez Peel OUT de Skin & Out combinent technologie et naturalité pour éliminer les points noirs tout en préservant la douceur de la peau.

La technologie hydrocolloïde absorbe les impuretés et le sébum accumulé dans les pores, tandis que l’acide salicylique désincruste en profondeur et limite la formation de nouveaux comédons. La niacinamide équilibre la production de sébum et apaise les irritations.
En quelques applications, les pores sont visiblement resserrés et la zone T retrouve un aspect plus net et lisse.

Conseil Gapianne : utilisez une à deux fois par semaine sur peau propre et légèrement humide, puis hydratez après utilisation pour maintenir l’équilibre cutané.

À partir de 16 ans

Actifs principaux :

Technologie hydrocolloïde : absorbe l’excès de sébum et les impuretés.

Niacinamide : régule la production de sébum et resserre les pores.

Acide salicylique : désincruste et purifie en profondeur.

Résultat : pores affinés, peau lissée et purifiée.

Liste INCI : STYRENE/ISOPRENE COPOLYMER, CELLULOSE GUM, HYDROGENATED POLY(C6-20 OLEFIN), POLYISOBUTENE), NIACINAMIDE, SALICYLIC ACID